世博驛傳-產業新聞快訊評析 7月15號

July 15th, 2020 ‧ 9 min read

從生物藥發展策略與產能看GSK與三星生物製藥的CMO結盟

Benlysta
圖片來源:GSK

葛蘭素史克(GlaxoSmithKline, GSK)於今年5/21與三星旗下的合約生產暨研發公司(Contract Development and Manufacturing Organization, CDMO)三星生物製藥簽定協議。該合約的合作金額將在未來八年中超過2.31億美元,三星製藥依合約提供GSK生物製劑的大規模生產能力,初步將於2022年實踐GSK旗下紅斑性狼瘡抗體藥Benlysta的商業生產,並且在未來擴展到其他產品。

評論:過去GSK在藥品上的營收以小分子的處方藥為主,隨著一些明星藥物的專利期限到期與營收成長受限,GSK也做了一些相關的調整,包括:

  1. 轉手部分處方藥與非處方藥的生產基地,改以合約生產的方式生產,調節過剩的產能,同時籌措資金。譬如去年與今年分別將位於愛爾蘭科克與加拿大多倫多的生產基地賣給了ThermoFisher與保瑞製藥。
  2. 出售部分專利到期藥物,如去年在中國將B型肝炎藥物賀普丁的生產基地與藥證出售給重慶藥友製藥。
  3. 加強疫苗與生物藥的研發力道,陸續推出Benlysta、Bexxar、Prolia、Nucala等抗體藥;並於2018年以51億美金的高價收購免疫療法與腫瘤醫學公司Tesaro;持續發展Belantamab、Dostarlimab、Otilimab等癌症或其他適應症的抗體藥。由於過去GSK生物藥的產品並不多,短期內產能尚不足以提升到足以支撐目前的銷售成長與未來將推出的新產品,簽訂合約生產亦不失為一種提升產能即時且經濟的作法。

EUV防塵薄膜龍頭之爭,三井化學是否能延續其優勢?

報導,EUV(極紫外光,Extreme ultraviolet)曝光機製造龍頭ASML於近期宣布將與日本化工大廠三井化學進行授權,生產EUV光罩(reticle)專用的防塵薄膜(pellicle)。以現有DUV(深紫外光,Deep ultraviolet)曝光機用的光罩為例,當光罩前覆蓋一層防塵薄膜時,汙染物因防塵薄膜的阻隔,僅會落於與光罩保有一定距離的防塵薄膜上,在曝光時汙染物不會對焦於晶圓表面,有效減少缺陷產生:

EUV光罩專用的防塵薄膜示意圖
圖片來源: 世博科技顧問林士凱分析師

然而,由於EUV極容易被外界環境所吸收,故其採用反射式設計將光源透過多次反射後於晶圓上進行曝光,這與前代DUV曝光機的透射式不同,使得EUV曝光機用的光罩及防塵薄膜皆需要重新設計,導致EUV曝光技術在發展的初期並沒有防塵薄膜覆蓋於光罩上,需要頻繁的對曝光後的圖案進行檢測以避免缺陷持續產生;一旦光罩出現損壞,後續光罩的修復、清理甚至是光罩的重製所耗費的時間及金錢對於晶圓代工廠也是一大負擔。

目前EUV光罩用防塵薄膜整體對於光線的穿透率最高約為88%左右,對比DUV光罩用防塵薄膜的穿透率約為99%,兩者還存在著一段不小的距離;此外,由於EUV光罩專用的防塵薄膜厚度極薄,與防塵薄膜相關的散熱設計、薄膜結構強度、薄膜的耐用性以及對於製程良率的提升等研究也還持續的在進行中。目前其餘幾家已投入EUV防塵薄膜研發及生產製造的廠商,像是日本化工大廠信越化學、韓國光罩廠S&S Tech等,皆還未出現對於光線穿透率的突破或是能夠大量生產防塵薄膜的消息;在ASML與宣佈將把EUV光罩用防塵薄膜的技術授權給三井化學後,三井化學將如何延續其在防塵薄膜技術上的優勢,以及如何在生產製造上取得領先的地位還值得關注。

遠距醫療商機大,陳冠宏律師提醒:法遵配套先做好。

遠距醫療

遠距醫療以往向為舒緩城鄉醫療資源不均、高齡或行動不便就醫等情況,而此波新冠肺炎疫情雖再次考驗醫療資源分配,卻也讓人看到遠距醫療應用新層面。

臺灣網路建設覆蓋率廣,智慧物聯網(AIoT)及行動醫療載具技術成熟產品多元,且民眾對於行動3C產品使用普及率高,對軟體與介面操作熟悉,推動遠距醫療服務的客觀條件早已成熟,醫療院所及相關產業廠商無不躍躍欲試。但陳冠宏律師提醒,無論是傳統狹義的遠距看診,或是廣義上與行動載具結合,將健康資訊上傳雲端,透過人工智慧技術(AI)分析大數據資料庫,提供患者長期健康監控或報告之遠距服務模式,不可避免將蒐集使用巨量個人資訊,服務鏈上中下游業者均須遵循我國個人資料保護法及歐盟一般資料保護規範(General Data Protection Regulation,GDPR),尤其資料使用範圍與明確授權不可忽略,避免面臨巨額賠償與裁罰,反而自斷市場機會。

施 昀廷
施 昀廷

分析師

陳 冠宏
陳 冠宏

律師

發布留言

發佈留言必須填寫的 Email 地址不會公開。